Le concours « New Exposure » a été créé pour que de jeunes photographes puissent confronter leur talent à l’avis de professionnels de la mode, de la photo, de l’art et du design.
Tout d’abord, le jury élira les 10 finalistes qui auront alors l’été pour réaliser un projet et le présenter lors de la Fashion Week de New York.

Le gagnant se verra remettre un chèque de 10.000$ ainsi que d’un an de mentorat dans l’agence « Art+Commerce » ainsi qu’avec Ivan Shaw (Directeur de la photographie pour Vogue). La Maison Bottega Vaneta lui fera aussi réaliser une séance photo exclusive. L’inscription se fait directement sur le site ou en envoyant son book à cette adresse : newexposurepromo@vogue.com. Le book doit composer entre 12 et 20 clichés de mode sous PDF.
Le dossier est à remettre jusqu’au 10 juillet. Les vainqueurs seront désignés à la fin du mois.

Pour information, le jury est composé : -Tomas Maier, directeur artistique de Bottega Vaneta -Ivan Shaw, Directeur de la photographie chez Vogue -Linda Evangelista, Top modèle -Craig McDean, Photographe -Andrew Bolton, conservateur du Met Costume Institute (NY).

Peut-être un indice concernant les attentes du jury, sur le site de vogue, il est écrit que les photographes participants seront peut être inspiré par la citation de Henri Cartier Bresson « Photographier c’est mettre sur la même ligne de mire la tête, l’œil et le cœur ».

Bonne chance aux participants.